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一种掩模版膜面微粒清除装置及方法[发明专利]
来源：锐游网
专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：一种掩模版膜面微粒清除装置及方法专利类型：发明专利
发明人：王伟轶,林伟,林超,周荣梵申请号：CN202110045397.6申请日：20210114公开号：CN112387707A公开日：20210223
摘要：本发明涉及掩模版辅助装置技术领域，公开了一种掩模版膜面微粒清除装置及方法。清除装置包括支座，支座的一侧竖直设置两根立柱，两根立柱并列平行，两根立柱上均设有可沿立柱滑动的斜臂，两根斜臂悬伸端朝远离立柱方向延伸的同时朝远离支座的方向延伸，两根斜臂相对的侧面之间设有可延斜臂滑动的横杆，横杆上设置能进行检测和清楚作业的功能模块，功能模块可延横杆滑动。利用该清除装置及清除方法，在检查及清除膜面微粒时不会划伤膜面或带来微粒残留，通过镜头扫描识别、喷枪姿态调控、压力适配，实现安全、迅捷、准确地清除作业，不仅避免了膜面二次污染，还提高了产品曝光良率。
申请人：成都路维光电有限公司
地址：610000 四川省成都市高新区康强三路1666号
国籍：CN
代理机构：成都行之专利代理事务所(普通合伙)
代理人：林菲菲
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