专利名称：一种超致密Cu(OH)纳米线的制备方法及产品专利类型：发明专利
发明人：廖广兰,林建斌,谭先华,方涵,史铁林,汤自荣申请号：CN201811208448.7申请日：20181017公开号：CN109402580A公开日：20190301
摘要：本发明属于微纳制造技术领域，并公开了一种超致密Cu(OH)纳米线的制备方法及产品。该方法包括，S1、ZnO种子层制备：在基底上沉积一层ZnO薄膜；S2、ZnO催化纳米棒的制备：在所述沉积有ZnO的基底置于Zn(NO)·6(HO)和CHN混合生长液中；S3、Cu种子层制备：在所述ZnO催化纳米棒表面沉积一层Cu种子层；S4、生长纳米线：将沉积有Cu种子层的基底置于NaOH和(NH)SO的混合溶液中，以生长超致密Cu(OH)纳米线。本发明还公开以一种超致密Cu(OH)纳米线。本发明制备形成的Cu(OH)纳米线的形貌具有质量更高、更加致密、比表面积大的特性。
申请人：华中科技大学
地址：430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
国籍：CN
代理机构：华中科技大学专利中心
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