专利名称：一种用于多晶硅抛光的化学机械抛光液专利类型：发明专利发明人：宋伟红,姚颖
申请号：CN200910200823.8申请日：20091225公开号：CN102108260A公开日：20110629
摘要：本发明公开了一种用于多晶硅抛光的化学机械抛光液，其含有磨料颗粒，表面活性剂和浆料稳定剂。本发明的化学机械抛光液在DRAM或者电容器以及层间介质的抛光中，调整了多晶硅材料的去除速率以及和其它硅基材料的选择比，避免了材料缺陷，使其达到了更好的表面形貌，实现了全局平坦化。
申请人：安集微电子(上海)有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
国籍：CN
代理机构：上海翰鸿律师事务所
代理人：李佳铭
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